Диаметр пластин
150мм
Тип загрузки пластин
SMIF контейнер
Создание тонких металлических пленок методом магнетронного распыления в вакууме на полупроводниковые пластины диаметром 150 мм. Установка обеспечивает создание конформных металлических пленок в окнах с большим аспектным отношением.
Получение высокочистых хлоридных материалов с чистотой 99,99994 методов периодической
Диаметр пластин
до 200мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Габариты ШхВхГ
4200х2850х1300
Газофазное осаждение из металлоорганических соединений для эпитаксиального роста гетероструктур на основе III-N материалов для силовых приборов и СВЧ транзисторов
Диаметр пластин
До 100мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Газофазное осаждение слоев нитрида и оксида кремния при пониженном давлении.
Диаметр пластин
300мм
Тип загрузки пластин
FOUP контейнер
Низкотемпературное осаждение диэлектрических слоев оксида или нитрида кремния из газовой фазы на пластинах диаметром до 300 мм.
Диаметр пластин
300мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Плазмохимическое травление диэлектрических (SiO₂, Si₃N₄ и другие), металлических (Al, Cr и другие), полупроводниковых и
полимерных слоев на пластинах диаметром до 300 мм.
полимерных слоев на пластинах диаметром до 300 мм.
Диаметр пластин
100мм, 150мм, 200мм
Тип загрузки пластин
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки и пластины методом магнетронного распыления.
Диаметр пластин
200мм
Тип загрузки пластин
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Высокопроизводительное автоматизированное перемещение пластин диаметром 200 мм
Получение высокочистых гидридных материалов с чистотой 99,99994 методом периодической высокотемпературной ректификации.
Диаметр пластин
До 100мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Получение эпитаксиальных ферро-гранатовых, цилиндрических магнитных доменных (ЦМД) и других структур из жидкой фазы.