ИЗОФАЗ ТМ 300
Низкотемпературное осаждение диэлектрических слоев оксида или нитрида кремния из газовой фазы на пластинах диаметром до 300 мм.
Характеристики
Диаметр пластин
—
300мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
FOUP контейнер
Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах
ИЗОФАЗ ТМ 300
Технические характеристики:
- Групповая обработка пластин до Ø 300 мм на рабочем столе в одном технологическом цикле;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки пластин из кассеты в кассету;
- Транспортная система переноса носителя из шлюзовой камеры в реактор на основе манипулятора;
- Нагрев рабочего стола до 350°С;
- Скорость осаждения слоев SiO₂ не менее 0,5 нм/с;
- Рабочие газы: SiH₄, O₂, N₂, N₂O, He и другие;
- Мощность потребления не более 21 кВт;
- Безмасляная система откачки;
- Возможность встраивания в чистую комнату.
Гарантийное и постгарантийное обслуживание;
Возможность модернизации и переналадки оборудования под запросы заказчика.