Диаметр пластин
До 100мм, 150мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Нанесение пленок металлов, резистиных материалов и диэлектриков на подложки (пластины) методом магнетронного напыления и термического испарения
Диаметр пластин
200мм
Тип загрузки пластин
SMIF контейнер
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления (ICP RIE) слоев металлизации для формирования элементов металлической разводки плазмохимическим травлением Al (алюминия) по фоторезистивной маске на функциональных подложках.
Диаметр пластин
200мм
Тип загрузки пластин
SMIF контейнер
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления поликремния для формирования элементов схемы (затворов различного типа, щелевой изоляции) плазмохимическим травлением кремния по фоторезистивной маске и жесткой маске на функциональных подложках.