Кластер ПХТ PolySi
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления поликремния для формирования элементов схемы (затворов различного типа, щелевой изоляции) плазмохимическим травлением кремния по фоторезистивной маске и жесткой маске на функциональных подложках.
Технические характеристики
Диаметр пластин
—
200мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер
Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах
Кластер ПХТ PolySi
Технологические характеристики:
- Размер обрабатываемых подложек, до Ø мм – 200;
- Количество одновременно загружаемых подложек – 1;
- Скорость травления кремния, поликремния, А/мин – > 2000;
-
Требования к процессам травления, мкм:
- максимальная толщина poly etchback – 1
- максимальная глубина травления STI – 1
- максимальная глубина травления trench-контактов – 1
- максимальная толщина травления поликремневого затвора – 0.5
-
Селективность:
- травления кремния и поликремния по отношению к фоторезисту* – > 15:1 на основной стадии травления
- травления кремния и поликремния по отношения к оксиду кремния – > 100:1 на стадии перетрава
-
Неравномерность травления, %:
- по пластине – ±3
- от пластины к пластине** – ±2,5
- от реактора к реактору** – ±4
- Диапазон рабочих давлений, Па – 1-10;
Энергообеспечение:
- Потребляемая электрическая мощность, кВт, не более – 85;
- Напряжение и частота питающей сети, В, Гц – 380, 50;
- Сжатый воздух, избыточное давление, МПа – (0,3 - 0,4)
- Габаритные размеры установки (ШхГхВ) мм – 5000*4500*2200
- Вес установки, не более кг – 3500
Гарантийное и постгарантийное обслуживание;
Возможность модернизации и переналадки оборудования под запросы заказчика.