Кластер ПХТ Al
3D
Промышленно-ориентированный кластерный комплекс плазмохимического травления (ICP RIE) слоев металлизации Al для пластин диаметром до 200 мм
Технические характеристики
Подписи к лаборатрным исследованиям
—
Тест
Диаметр пластин
—
до 200 мм, 300 мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF-контейнер
Габариты ШхВхГ
—
5000×4500×2200
Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах
Кластер ПХТ Al
Loading...
Технологические характеристики:
- Размер обрабатываемых подложек, до Ø – 200 мм (с возможностью перехода на 300 мм);
- Количество одновременно загружаемых подложек – 1;
- Максимальная толщина травимого металла (Al), до мкм – 5;
- Неравномерность травления, %:
- по пластине – ±5
- от пластины к пластине – ±2,5
- от реактора к реактору – ±4
- Скорость удаления фоторезиста при 270 ℃, до мкм/мин – 3,5
- Диапазон рабочих давлений для модулей Al, Па – 1-10;
- Диапазон рабочих давлений для модулей удаления ФР , Па – 200-400;
Энергообеспечение:
- Потребляемая электрическая мощность, кВт, не более – 85;
- Напряжение и частота питающей сети, В, Гц – 380, 50;
- Сжатый воздух, избыточное давление, МПа – 0,3 - 0,4
- Габаритные размеры установки (ШхГхВ) мм – 5000*4500*2200
- Вес установки, не более кг – 3500
Гарантийное и постгарантийное обслуживание;
Возможность модернизации и переналадки оборудования под запросы заказчика.