Поиск по каталогу/Выращивание эпитаксиальных структур
Осаждение сверхтолстых поликристаллических слоев кремния из твердого источника на монокристаллические подложки кремния или сапфира.
Диаметр пластин
—
До 100мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Поиск по каталогу/Выращивание эпитаксиальных структур
Газофазное осаждение моно- и поликристаллических слоев кремния в широком диапазоне толщин и удельных сопротивлений на монокристаллические подложки кремния или сапфира хлоридным или хлоридно-гидридным методом.
Диаметр пластин
—
До 100мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Поиск по каталогу/Выращивание эпитаксиальных структур
Получение эпитаксиальных ферро-гранатовых, цилиндрических магнитных доменных (ЦМД) и других структур из жидкой фазы.
Диаметр пластин
—
До 100мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Поиск по каталогу/Выращивание эпитаксиальных структур
Газофазное осаждение из металлоорганических соединений для эпитаксиального роста гетероструктур на основе III-N материалов для силовых приборов и СВЧ транзисторов
Диаметр пластин
—
до 200мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Мощность потребления номинальная
—
до 100 кВт
Диапазон температур
—
300-1150 ̊С
Расход воды
—
не менее 5 м3/час
Расход вытяжки
—
не менее 2000 м3/час
Габариты ШхВхГ
—
4200х2850х1300
Диапазон регулирования давления
—
100-1000 мбар