Поиск новых научно-технических решений при разработке перспективного оборудования для микроэлектронной отрасли – это важная составляющая работы специалистов НИИТМ (входит в ГК «Элемент», MOEX:ELMT). Такие решения всегда базируются на результатах прикладных научных исследований и опытно-конструкторских работ.
Одним из последних таких решений стала оптическая система контроля окончания процесса травления (система Endpoint) на основе оптико-эмиссионной спектрометрии (OES). Программно-аппаратный комплекс позволяет реализовать наиболее точный способ проведения технологической операции путём определения момента окончания процесса для перехода на стадию «перетрава» с низкой скоростью травления для достижения наилучших результатов. В основу работы системы легли данные, полученные при измерении излучения ВЧ-плазмы в широком диапазоне от УФ до ИК – эти исследования были проведены сотрудниками НИИТМ совместно с учёными отдела микроэлектроники НИИЯФ МГУ имени М. В. Ломоносова.
Система Endpoint была впервые реализована НИИТМ при разработке и изготовлении технологических модулей кластерного комплекса ПХТ (плазмохимического травления) для обработки пластин диаметром до 300 мм (подробнее об этом оборудовании вы можете прочитать на нашем сайте: НИИМЭ и НИИТМ первыми в России разработали оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм). В рамках этой ОКР при поддержке Минпромторга России сотрудники НИИТМ разработали программное обеспечение и его алгоритмы, а также провели испытания.
По завершении этого проекта программно-аппаратный комплекс начала и окончания процесса травления начали внедрять в том числе в серийное оборудование предприятия: например, он был интегрирован в установку плазмохимического травления оксида кремния ПЛАЗМА ТМ 7, а также предлагается заказчикам в качестве дополнительной опции для всех установок линейки оборудования ПЛАЗМА ТМ.