+7(495)229-75-01
+7(495)229-75-01 - Приемная
+7(499)735-13-69 - Отдел маркетинга
+7(495)229-75-14 - Отдел закупок
Свяжитесь с нами
E-mail
info@niitm.ru
marketing@niitm.ru
job@niitm.ru
Адрес
г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
Режим работы
Пн - Чт: 08:30 - 17:30
Пт: 08:30 - 16:15
Свяжитесь с нами
О компании
  • История развития
  • Виртуальный тур
  • Реквизиты
Оборудование
  • Классификация оборудования
    • Кластерное оборудование
    • Плазмохимическое травление – ПХТ
    • Плазмохимическое осаждение – ПХО
    • Физическое нанесение (PVD)
    • Выращивание эпитаксиальных структур
    • Термическая обработка
  • Кластерное оборудование
    • PVD
    • ПХО
    • ПХТ
  • Новые разработки
  • Поиск по каталогу
Технологии
Карьера
Пресс-центр
Контакты
г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
+7(495)229-75-01
+7(495)229-75-01 - Приемная
+7(499)735-13-69 - Отдел маркетинга
+7(495)229-75-14 - Отдел закупок
Свяжитесь с нами
E-mail
info@niitm.ru
marketing@niitm.ru
job@niitm.ru
Адрес
г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
Режим работы
Пн - Чт: 08:30 - 17:30
Пт: 08:30 - 16:15
О компании
  • История развития
  • Виртуальный тур
  • Реквизиты
Оборудование
  • Классификация оборудования
    Классификация оборудования
    • Кластерное оборудование
      • PVD
      • ПХО
      • ПХТ
    • Плазмохимическое травление – ПХТ
    • Плазмохимическое осаждение – ПХО
    • Физическое нанесение (PVD)
    • Выращивание эпитаксиальных структур
    • Термическая обработка
  • Кластерное оборудование
    Кластерное оборудование
    • PVD
    • ПХО
    • ПХТ
  • Новые разработки
    Новые разработки
  • Поиск по каталогу
    Поиск по каталогу
Технологии
Карьера
Пресс-центр
Контакты
    О компании
    • История развития
    • Виртуальный тур
    • Реквизиты
    Оборудование
    • Классификация оборудования
      Классификация оборудования
      • Кластерное оборудование
        • PVD
        • ПХО
        • ПХТ
      • Плазмохимическое травление – ПХТ
      • Плазмохимическое осаждение – ПХО
      • Физическое нанесение (PVD)
      • Выращивание эпитаксиальных структур
      • Термическая обработка
    • Кластерное оборудование
      Кластерное оборудование
      • PVD
      • ПХО
      • ПХТ
    • Новые разработки
      Новые разработки
    • Поиск по каталогу
      Поиск по каталогу
    Технологии
    Карьера
    Пресс-центр
    Контакты
      +7(495)229-75-01 - Приемная
      +7(499)735-13-69 - Отдел маркетинга
      +7(495)229-75-14 - Отдел закупок
      Свяжитесь с нами
      E-mail
      info@niitm.ru
      marketing@niitm.ru
      job@niitm.ru
      Адрес
      г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
      Режим работы
      Пн - Чт: 08:30 - 17:30
      Пт: 08:30 - 16:15
      Телефоны
      +7(495)229-75-01 - Приемная
      +7(499)735-13-69 - Отдел маркетинга
      +7(495)229-75-14 - Отдел закупок
      Свяжитесь с нами
      • О компании
        • О компании
        • История развития
        • Виртуальный тур
        • Реквизиты
      • Оборудование
        • Оборудование
        • Классификация оборудования
          • Классификация оборудования
          • Кластерное оборудование
            • Кластерное оборудование
            • PVD
            • ПХО
            • ПХТ
          • Плазмохимическое травление – ПХТ
          • Плазмохимическое осаждение – ПХО
          • Физическое нанесение (PVD)
          • Выращивание эпитаксиальных структур
          • Термическая обработка
        • Кластерное оборудование
          • Кластерное оборудование
          • PVD
          • ПХО
          • ПХТ
        • Новые разработки
        • Поиск по каталогу
      • Технологии
      • Карьера
      • Пресс-центр
      • Контакты
      Свяжитесь с нами
      • +7(495)229-75-01 Приемная
        • Телефоны
        • +7(495)229-75-01 Приемная
        • +7(499)735-13-69 Отдел маркетинга
        • +7(495)229-75-14 Отдел закупок
        • Заказать звонок
      • г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
      • info@niitm.ru
        marketing@niitm.ru
        job@niitm.ru
      • Пн - Чт: 08:30 - 17:30
        Пт: 08:30 - 16:15

      НИИМЭ и НИИТМ первыми в России разработали оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм

      Главная
      —
      Новости
      —
      Новости
      —
      Общие
      —НИИМЭ и НИИТМ первыми в России разработали оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм
      Общие
      11.12.2025

      Научно‑исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ (оба входят в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT) завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Установки позволят выпускать интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах 200 мм и 300 мм. Российские организации вошли в пятерку компаний в мире, обладающих компетенциями в разработке и производстве данного класса технологического оборудования.

      Головным исполнителем проекта стал НИИМЭ, обеспечивший строительство чистых производственных помещений (ЧПП), монтаж и подключение опытных образцов оборудования в ЧПП, разработку технологических процессов и испытание оборудования. Основным соисполнителем выступил НИИТМ, чьи специалисты разработали само оборудование и участвовали в проведении испытаний.

      «Создание первых российских кластерных систем для ПХО и ПХТ – важный практический результат. Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники. Особую ценность представляет модульность платформы: она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам. Этот проект демонстрирует, что кооперация наших научных институтов и промышленности способна решать сложнейшие технологические задачи», - отметил заместитель министра промышленности и торговли Василий Шпак.

      В мировой практике в качестве стандарта для производства микросхем используется оборудование кластерного типа, так как оно позволяет объединять от 2 до 8 технологических установок с общей системой загрузки. Это дает возможность последовательно проводить ряд технологических процессов без выгрузки пластин в атмосферную среду помещения. Модульная структура позволяет гибко конфигурировать оборудование в зависимости от потребностей и мощности производств. Все эти факторы влияют на снижение себестоимости продукции и улучшение качества чипов.

      Сегодня техпроцессы с топологическими нормами 28-90 нм на мировом рынке обеспечивает наиболее массовый выпуск микросхем для автомобильной и авиакосмической промышленности, систем автоматизации и управления.

      Оборудование разработано для работы с пластинами диаметром 200 и 300 мм. Это дает возможность применять установки на действующих и планируемых производствах как с технологическими нормами, реализуемыми на пластинах 200 мм, так и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах. При использовании конфигурации оборудования для пластин диаметром 200 мм возможно применение с проектными нормами — 90, 130, 180, 250 нм.

      В дальнейшем разработанные и аттестованные в рамках проекта базовые технологические процессы осаждения и травления диэлектрических слоев являются базой для их адаптации под существующие техпроцессы и для разработки перспективных, включая 28 нм.

      «Вхождение в мировой топ обладателей технологии кластерных систем для микроэлектроники — это одновременно и колоссальное достижение, и серьезная ответственность перед отечественными разработчиками. Создание российских кластерных систем для ПХО и ПХТ стало ключевым этапом на пути к технологической самостоятельности отечественной микроэлектроники. Мы заложили основу для дальнейшего развития», - отметил генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов.

      «Разработка кластерных установок ПХО и ПХТ для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм открывает новые перспективы для вывода российской микроэлектронной отрасли на новый технологический уровень. Создание оборудования для технологий с проектной нормой до 65 нм – важный шаг в развитии электронной промышленности нашего государства, демонстрирующий высокий уровень компетенций и готовность обеспечить российские предприятия отечественным оборудованием, не уступающим зарубежным аналогам», - сказал генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков.

      Справка о компаниях

      Группа компаний «Элемент» (MOEX:ELMT) – совместное предприятие АФК «Система» и госкорпорации «Ростех», созданное в 2019 году для формирования единого национального центра компетенций в сфере разработки и производства микроэлектроники в России. В Группу входят более 30 дизайн-центров и производственных площадок: завод по производству чипов «Микрон», НИИ молекулярной электроники (НИИМЭ), НИИ электронной техники (НИИЭТ), «Прогресс», НЗПП «Восток», НИИ точного машиностроения (НИИТМ) и другие. Предприятия группы ведут разработки новых технологий в следующих направлениях: вычислительная техника, связь и навигация, силовая электроника, разработки для микроэлектронных производств. Компания владеет более 480 патентами и производит более 3000 типономиналов продукции. В мае 2024 года «Элемент» провел IPO. Привлеченные средства были направлены на расширение производств, запуск новых продуктов и международную экспансию.

      АО «НИИМЭ» (АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники», входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT) - ведущий научно-исследовательский центр по проведению фундаментальных и прикладных исследований в области микроэлектроники, разработке и производству полупроводниковых изделий. Основан в 1964 году. Выполняет опытно-конструкторские работы по федеральным программам Минпромторга, Минобрнауки, госкорпораций, а также ведет инициативные работы за счет собственных средств. Постановлением Правительства РФ определен организацией, ответственной за реализацию приоритетного направления «Электронные технологии». Резидент особой экономической зоны «Технополис Москва».

      АО НИИТМ (АО «Научно-исследовательский институт точного машиностроения», входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT) – ведущий производитель широкого спектра исследовательского и промышленного технологического оборудования для микроэлектронной отрасли. Институт образован в 1962 году. Занимается разработкой кластерных комплексов и установок плазмохимического травления, химического осаждения из газовой фазы, физического нанесения, выращивания эпитаксиальных структур и газотермической обработкой для пластин диаметром от 76 до 300 мм. Является активным участником Комплексных проектов и Государственных программ Минпромторга РФ. Входит в реестр организаций, осуществляющих деятельность в сфере радиоэлектронной промышленности.

      Фотогалерея
      1 —
      1/1 —
      НИИМЭ и НИИТМ первыми в России разработали оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм
      НИИМЭ и НИИТМ первыми в России разработали оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм
      Дополнительно

      Дополнительная вкладка, для размещения информации о новостях, доставке или любого другого важного контента. Поможет вам ответить на интересующие покупателя вопросы и развеять его сомнения в покупке. Используйте её по своему усмотрению.

      Вы можете убрать её или вернуть обратно, изменив одну галочку в настройках компонента. Очень удобно.

      Назад к списку
      Компания
      История развития
      Виртуальный тур
      Реквизиты
      Оборудование
      Классификация оборудования
      Кластерное оборудование
      Новые разработки
      Поиск по каталогу
      Контакты
      Горячая линия ГК «Элемент»
      Информация о правообладателе
      +7(495)229-75-01
      +7(495)229-75-01 - Приемная
      +7(499)735-13-69 - Отдел маркетинга
      +7(495)229-75-14 - Отдел закупок
      Свяжитесь с нами
      E-mail
      info@niitm.ru
      marketing@niitm.ru
      job@niitm.ru
      Адрес
      г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
      Режим работы
      Пн - Чт: 08:30 - 17:30
      Пт: 08:30 - 16:15
      info@niitm.ru
      marketing@niitm.ru
      job@niitm.ru
      г. Зеленоград, Панфиловский проспект, 10
      © 2026 niitm.ru
      Политика конфиденциальности