Кластер ПХО ТМ-300

Технологические характеристики:

• Размер обрабатываемых подложек, до Ø мм – 200 или 300;
• Габариты (ШхГхВ) — не более 5000х7000х2500 мм;
• Основной реагент:
  1. Модуль осаждения PE SiO₂ – SiH₄, N2O;
  2. Модуль осаждения PE Si₃N₄ – SiH₄, NH3;
  3. Модуль осаждения PE TEOS – TEOS, О2;
  4. Модуль осаждения SACVD TEOS – TEOS, O₃;
• Нагрев пластин:
  1. Модуль осаждения PE SiO₂ – 400 ºС;
  2. Модуль осаждения PE Si₃N₄ – 480 ºС;
  3. Модуль осаждения PE TEOS – 400 ºС;
  4. Модуль осаждения SACVD TEOS –550 ºС;
• Рабочее давление:
  1. Модуль осаждения PE SiO₂ – 133÷1333 Па;
  2. Модуль осаждения PE Si₃N₄ – 133÷1333 Па;
  3. Модуль осаждения PE TEOS – 133÷1333 Па;
  4. Модуль осаждения SACVD TEOS – 2×10⁴÷8×10⁴ Па;
• Неравномерность осаждения до, %:
  1. Модуль осаждения PE SiO₂ – 2,5;
  2. Модуль осаждения PE Si₃N₄ – 2,5;
  3. Модуль осаждения PE TEOS – 2,5;
  4. Модуль осаждения SACVD TEOS – 2,5;
• Тип осаждения:
  1. Модуль осаждения PE SiO₂ – PECVD;
  2. Модуль осаждения PE Si₃N₄ – PECVD;
  3. Модуль осаждения PE TEOS – PECVD;
  4. Модуль осаждения SACVD TEOS – SACVD;
• Удаленный источник плазмы для очистки камеры – для более эффективной очистки камеры, сберегающей оснастку
• Генераторы двух различных частот для модулей PECVD – для улучшенной регулировки параметров осаждаемого слоя
• Инновационная система подачи и дозирования ТЕОS