ЭЛУ ТМ 3

Получить PDF Связаться с нами

Возможны дополнительные опции

Вакуумная установка электронно-лучевого испарения предназначена для нанесения металлических плёнок на полупроводниковые пластины

Подробнее

Технические характеристики

Классификация оборудования

—

Физическое нанесение

Диаметр пластин

—

100мм

Тип загрузки пластин

—

Ручная

Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах

2 типа подложкодержателей: 30 мест для размещения образцов диаметром до 50 мм или 10 мест для размещения пластин диаметром 100 мм;
Нагрев образцов до 300 градусов;
Вакуумная камера из нержавеющей стали с возможностью охлаждения и нагрева стенок;
Предельное остаточное давление 10^-6 Торр;
Криогенный насос для создания глубокого вакуума;
Количество электронно-лучевых испарителей: 2;
Объем тигля в каждом испарителе 100 см³ ;
Заслонка для каждого испарителя;
Система контроля толщины напыляемых слоев;
Автоматический режим работы установки;
Чиллер в комплекте с установкой.

Гарантийное и постгарантийное обслуживание;

Возможность модернизации и переналадки оборудования под запросы заказчика.