НИИТМ (входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT) завершил поставку заказчику вакуумной установки плазмохимического травления оксида кремния ПЛАЗМА ТМ 7. Установка входит в линейку оборудования плазмохимического травления диэлектрических слоёв и полупроводниковых материалов ПЛАЗМА ТМ.
Преимущества:
- Адаптивность: может быть применена для обработки пластин диаметром 100-150 мм без сложной перенастройки транспортного робота.
- Универсальность – подходит для широкого спектра производственных процессов.
- Высокая герметичность рабочей камеры.
- Стабильность работы в агрессивных средах.
- Повышенная точность и воспроизводимость благодаря встроенной оптической системе определения окончания процесса травления.
Установка гарантирует высокую степень надёжности в сочетании с высокой скоростью травления оксида кремния (SiO₂) от 300 нм/мин.
В зависимости от выбора эксплуатационных газов возможно травление различных материалов:
- нитрид кремния (Si₃N₄)
- поликремний (poly-Si)
- монокристаллический кремний (mono-Si)
Подбор оборудования:
1. Отправьте ТЗ на почту marketing@niitm.ru.
2. Получите индивидуальное решение под задачи вашего производства или лаборатории.