На прошедшей неделе в кампусе Сколтеха в Москве состоялась Всероссийская научно-техническая конференция с международным участием «Проблемы разработки перспективных микро- и наноэлектронных систем» – МЭС-2026.
27 мая специалист лаборатории плазменного травления и осаждения НИИТМ (ГК «Элемент», MOEX: ELMT) выступил со стендовым докладом на секции «Инновационные методы создания и изготовления микроэлектронных систем». На конференции он рассказал о минимизации шероховатости боковых стенок формируемых структур за счёт сокращения длительности циклов во время проведения Бош-процесса.
Научная конференция МЭС является партнёром Российского форума «Микроэлектроника 2026». Лучшие доклады будут рекомендованы для представления на форуме, который пройдет с 27 сентября по 3 октября 2026 года на Федеральной территории "Сириус".