История развития

• Создано вакуумное оборудование повышенной производительности путем групповой обработки.
• Разработаны первые образцы диффузионного оборудования и промышленное оборудование для формирования слоев пленок на ситалловых подложках размером 60х48 мм.
• Разработан комплект оборудования для массового производства интегральных схем на кремниевых пластинах диаметром 40 и 60 мм.

•  Освоение метода магнетронного распыления для нанесения пленок на Si пластины Ø 100 мм.
• Разработаны все необходимые виды оборудования для производства интегральных схем на пластинах диаметром 76 мм, в т.ч. том числе с электронно-лучевыми и ионными системами.
• Ряд сотрудников предприятия отмечены Ленинской и Государственной премиями.
• В 1960–80-е годы НИИТМ был фактически единственным в стране крупным разработчиком вакуумно-плазменного и физико-термического оборудования.

•  Освоение безмасляных средств откачки.
• Работа над микропроцессорным управлением (МПСУ).
• Встраивание оборудования в «чистую комнату».
• Предприятие награждено орденом Трудового Красного Знамени.
• Создано советско-болгарское предприятие «ЭМКО».

•  Разработка нового поколения специального кластерного технологического оборудования с интеграцией технологических модулей в одной установке для проведения микроциклов.
• Поставка в КНР более 30 технологических установок.
• Сокращение научных направлений деятельности НИИ.

•  Создание новых типов вакуумного оборудования полунепрерывного и непрерывного действия, а также кластерных систем.
• Переход на индивидуальную обработку пластин Ø 150 мм и Ø 200 мм.
• Разработка, изготовление и поставка комплекта малогабаритных вакуумно- плазменных установок для ВУЗов вузов (пластины 100-150 мм)  для мелкосерийного производства;
• Работа над установками для доочистки сверхчистых  гидридных газов методом низкотемпературной ректификации; комплекта комплектом установок доочистки сверхчистых  хлоридных газов; установкойи газофазного и жидкофазного эпитаксиального выращивания структур;
• Разработка кластерного оборудования для инновационных технологических процессов;
• Разработка вакуумного оборудования для магнетронного нанесения пленок на рулонный материал.

• Создание промышленно-ориентированного инновационного оборудования и кластерных комплексов на его основе для обработки пластин Ø 200 и 300 мм.
•  Разработка, изготовление и поставка:

•  установки для доочистки сверхчистых гидридных газов методом низкотемпературной ректификации;
•  комплекта установок доочистки сверхчистых хлоридных газов;
•  установки газофазного и жидкофазного эпитаксиального выращивания структур;
•  кластерного оборудования для инновационных технологических процессов;
•  вакуумного оборудования для магнетронного нанесения пленок на рулонный материал;
•  выполнение ПНИ (прикладных научных исследований) по Соглашению о предоставлении субсидии с Минобрнауки;
•  осуществлена поставка вакуумной системы, узлов и агрегатов рулонной установки для металлизации электронных материалов;
•  комплекса вакуумно-плазменных процессов для обработки пластин диаметром 300 мм.

• АО НИИТМ становится соразработчиком Программы развития электронного машиностроения до 2030 года. В рамках данной программы совместно с АО «НИИМЭ» выполняется комплекс НИОКР:

1) Разработка технологических модулей критических операций по обработке пластин диаметром до 300мм и уровнем технологии 65 нм (плазмохимические процессы травления и осаждения).

2) Создание отечественного оборудования для ионной имплантации.