История развития

 

Создание вакуумного оборудования повышенной производительности путем групповой обработки. Разработаны первые образцы диффузионного оборудования и промышленное оборудование для формирования слоев пленок на ситалловых подложках размером 60х48 мм. Разработан комплект оборудования для массового производства интегральных схем на кремниевых пластинах диаметром 40 и 60 мм.

 

Освоение метода магнетронного распыления для нанесения пленок на Si пластины Ø 100 мм. Разработаны все необходимые виды оборудования для производства интегральных схем на пластинах диаметром 76 мм, в т.ч. с электронно-лучевыми и ионными системами. Ряд сотрудников предприятия отмечены Ленинской и Государственной премиями. 60–80-е годы НИИТМ был фактически единственным в стране крупным разработчиком вакуумно-плазменного и физико-термического оборудования.

 

Освоение без масляных средств откачки и микропроцессорного управления (МПСУ). Встраивание оборудования в «чистую комнату». Предприятие награждено орденом Трудового Красного Знамени. Создано советско-болгарское предприятие «ЭМКО».

 

Разработка нового поколения специального кластерного технологического оборудования с интеграцией технологических модулей в одной установке для проведения микроциклов. Поставка в КНР более 30 технологических установок. Сокращение научных направлений
деятельности НИИ.

 

Создание новых типов вакуумного оборудования полунепрерывного и непрерывного действия, а также кластерных систем. Переход на индивидуальную обработку пластин Ø 150 мм и Ø 200 мм. Разработка, изготовление и поставка комплекта малогабаритных вакуумно- плазменных установок для ВУЗов (пластины 100-150 мм)  для мелкосерийного производства; установки для доочистки сверхчистых  гидридных газов методом низкотемпературной ректификации; комплекта установок доочистки сверхчистых  хлоридных газов; установки газофазного и жидкофазного эпитаксиального выращивания структур;  кластерного оборудования  для инновационных технологических процессов; вакуумного оборудования для магнетронного нанесения пленок на рулонный материал.

 

Создание промышленно-ориентированного инновационного оборудования и кластерных комплексов на его основе для обработки пластин Ø 200 и 300 мм. Разработка, изготовление и поставка:

• установки для доочистки сверхчистых гидридных газов методом низкотемпературной ректификации;
• комплекта установок доочистки сверхчистых хлоридных газов;
• установки газофазного и жидкофазного эпитаксиального выращивания структур;
• кластерного оборудования для инновационных технологических процессов;
• вакуумного оборудования для магнетронного нанесения пленок на рулонный материал;
• выполнение ПНИ (прикладных научных исследований) по Соглашению о предоставлении субсидии с Минобрнауки;
•  осуществлена поставка вакуумной системы, узлов и агрегатов рулонной установки для металлизации электронных материалов;
• комплекса вакуумно-плазменных процессов для обработки пластин диаметром 300 мм.
• АО НИИТМ стал соразработчиком Программы развития электронного машиностроения до 2030 года. В рамках данной программы совместно с АО «НИИМЭ» выполняется комплекс НИОКР:
1)Разработка технологических модулей критических операций по обработке пластин диаметром до 300мм и уровнем технологии 65 нм (плазмохимические процессы травления и осаждения);
2)Создание отечественного оборудования для ионной имплантации.