МВУ ТМ ПЛАЗМА 03
Плазмохимическое селективное (реактивно-ионное, анизотропное) травление диэлектрических и металлических слоев.
Характеристики
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах
МВУ ТМ ПЛАЗМА 03
Технические характеристики:
- Индивидуальная обработка пластин до Ø 150 мм на ВЧ рабочем столе в одном технологическом цикле;
- Измерение напряжения на ВЧ рабочем столе в диапазоне от 0 до 1000 В;
- Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ рабочего стола в диапазоне 30 - 200 Вт;
- Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ICP источника плазмы в диапазоне 400 - 600 Вт;
- Рабочие газы: SF6, CF4, O2, Ar и другие;
- Мощность потребления не более 5,5 кВт;
- Микропроцессорная система управления;
- Безмасляная система откачки.
1. Нажмите кнопку «Свяжитесь с нами». При оформлении заказа заполнить форму. Вписать информацию в поля: ФИО, телефон и e-mail. В поле «Сообщение» можно ввести дополнительно более подробные технические характеристики оборудования. В ближайшее время с Вами свяжется отдел продаж, чтобы уточнить детали заказа.
2. Направить запрос на почту marketing@niitm.ru. Для отправки коммерческого предложения необходимо направить техническое задание в любом удобном формате.
Гарантийное и постгарантийное обслуживание;
Возможность модернизации и переналадки оборудования под запросы заказчика.