Новые разработки/ПХО
Промышленно-ориентированный технологический комплекс
плазмохимического осаждения (ПХО) для технологий уровня 65/45/28 нм
Выполнен совместно с АО «НИИМЭ» при поддержке Минпромторга России
плазмохимического осаждения (ПХО) для технологий уровня 65/45/28 нм
Выполнен совместно с АО «НИИМЭ» при поддержке Минпромторга России
Диаметр пластин
—
200мм, 300мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
FOUP контейнер, SMIF контейнер
Новые разработки/ПХТ
Промышленно-ориентированный технологический комплекс
плазмохимического травления (ПХТ) для технологий уровня 65/45/28 нм
Разработан совместно с АО «НИИМЭ» при поддержке Минпромторга России
Диаметр пластин
—
200мм, 300мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
FOUP контейнер, SMIF контейнер
Поиск по каталогу/ПХТ/Новые разработки
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления (ICP RIE) слоев металлизации для формирования элементов металлической разводки плазмохимическим травлением Al (алюминия) по фоторезистивной маске на функциональных подложках.
Диаметр пластин
—
200мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер
Поиск по каталогу/ПХТ/Новые разработки
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления поликремния для формирования элементов схемы (затворов различного типа, щелевой изоляции) плазмохимическим травлением кремния по фоторезистивной маске и жесткой маске на функциональных подложках.
Диаметр пластин
—
200мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер