ПХО/Новые разработки/ПХО
Промышленно-ориентированный технологический комплекс
плазмохимического осаждения (ПХО) для технологий уровня 65/45/28 нм
Выполнен совместно с АО «НИИМЭ» при поддержке Минпромторга России
плазмохимического осаждения (ПХО) для технологий уровня 65/45/28 нм
Выполнен совместно с АО «НИИМЭ» при поддержке Минпромторга России
Диаметр пластин
—
200мм, 300мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
FOUP контейнер, SMIF контейнер
ПХТ/Новые разработки/ПХТ
Промышленно-ориентированный технологический комплекс
плазмохимического травления (ПХТ) для технологий уровня 65/45/28 нм
Разработан совместно с АО «НИИМЭ» при поддержке Минпромторга России
Диаметр пластин
—
200мм, 300мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
FOUP контейнер, SMIF контейнер
Поиск по каталогу/ПХТ/Новые разработки/ПХТ
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления (ICP RIE) слоев металлизации для формирования элементов металлической разводки плазмохимическим травлением Al (алюминия) по фоторезистивной маске на функциональных подложках.
Диаметр пластин
—
200мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер
Поиск по каталогу/ПХТ/Новые разработки/ПХТ
Кластерная установка предназначена для проведения процессов плазмохимического травления поликремния для формирования элементов схемы (затворов различного типа, щелевой изоляции) плазмохимическим травлением кремния по фоторезистивной маске и жесткой маске на функциональных подложках.
Диаметр пластин
—
200мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер