Термическая обработка
Установка предназначена для автоматизированной термической обработки полупроводниковых пластин, керамических подложек и материалов в контролируемой среде рабочего газа (восстановительной, нейтральной) при пониженном давлении.
Диаметр пластин
—
до 200мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Физическое нанесение (PVD)
Установка нанесения металлов и их сплавов методом магнетронного распыления на поверхность диэлектрических и полупроводниковых пластин диаметром 100 мм, 150 мм и 200 мм.
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Поиск по каталогу/Прецизионная очистка
Получение высокочистых гидридных материалов с чистотой 99,99994 методом периодической высокотемпературной ректификации.
Нестандартное оборудование
—
Да
Поиск по каталогу/Выращивание эпитаксиальных структур
Получение эпитаксиальных ферро-гранатовых, цилиндрических магнитных доменных (ЦМД) и других структур из жидкой фазы.
Диаметр пластин
—
До 100мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Поиск по каталогу/Термическая обработка
Отжиг ионно-легированных слоев; формирование омических контактов; получение силицидов металлов, тонких окисных и диэлектрических пленок; рекристаллизация аморфных и поликристаллических пленок и др.
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Поиск по каталогу/Плазмохимическое осаждение – ПХО
Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Поиск по каталогу/Плазмохимическое травление – ПХТ
Плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии).
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Поиск по каталогу/Прецизионная очистка
Получение высокочистых хлоридных материалов с чистотой 99,99994 методов периодической
Нестандартное оборудование
—
Да
Поиск по каталогу/Выращивание эпитаксиальных структур
Газофазное осаждение из металлоорганических соединений для эпитаксиального роста гетероструктур на основе III-N материалов для силовых приборов и СВЧ транзисторов
Диаметр пластин
—
до 200мм
Тип загрузки пластин
—
Ручная
Мощность потребления номинальная
—
до 100 кВт
Диапазон температур
—
300-1150 ̊С
Расход воды
—
не менее 5 м3/час
Расход вытяжки
—
не менее 2000 м3/час
Габариты ШхВхГ
—
4200х2850х1300
Диапазон регулирования давления
—
100-1000 мбар
Поиск по каталогу/Термическая обработка
Газофазное осаждение слоев нитрида и оксида кремния при пониженном давлении.
Диаметр пластин
—
До 100мм
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
Ручная