Получение высокочистых гидридных материалов с чистотой 99,99994 методом периодической высокотемпературной ректификации.
Диаметр пластин
До 100 мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Получение эпитаксиальных ферро-гранатовых, цилиндрических магнитных доменных (ЦМД) и других структур из жидкой фазы.
Разработан при поддержке
Минпромторга России
Диаметр пластин
До 100 мм, 150 мм, 200 мм
Тип загрузки пластин
SMIF-контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Отжиг ионно-легированных слоев; формирование омических контактов; получение силицидов металлов, тонких окисных и диэлектрических пленок; рекристаллизация аморфных и поликристаллических пленок и др.
Разработан при поддержке
Минпромторга России
Диаметр пластин
76 мм, 100 мм, 150 мм, 200 мм, 300 мм
Тип загрузки пластин
SMIF-контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.
Разработан при поддержке
Минпромторга России
Диаметр пластин
76 мм, 100 мм, 150 мм, 200 мм, 300 мм
Тип загрузки пластин
SMIF-контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Габариты ШхВхГ
1900х2850х2000
Плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии).
Диаметр пластин
100 мм, 150 мм, 200 мм
Тип загрузки пластин
SMIF-контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Установка реактивного магнетронного осаждения оксида ванадия на кремниевые пластины, покрытые нитридом кремния на пластинах диаметром 100 мм, 150 мм, 200 мм.
Автоматизированная очистка кислот HCl, H₂SO₄ и HNO₃ методом дистилляции без кипения (субперегонкой) в кварцевом аппарате, и очистки указанных кислот от тяжелых примесей (K, Na, Ca, Mg, Al)
Диаметр пластин
До 100 мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Газофазное осаждение моно- и поликристаллических слоев кремния в широком диапазоне толщин и удельных сопротивлений на монокристаллические подложки кремния или сапфира хлоридным или хлоридно-гидридным методом.
Диаметр пластин
До 100 мм
Тип загрузки пластин
Ручная
Автоматизированная термическая обработка пластин и материалов (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур и др.) при нормальном давлении в восстановительной или нейтральной среде.
Разработан при поддержке
Минпромторга России
Диаметр пластин
76 мм, 100 мм, 150 мм, 200 мм, 300 мм
Тип загрузки пластин
SMIF-контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Установка плазмохимического осаждения диэлектрических слоев