ПЛАЗМА ТМ 200-01
3D
Плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии).
Технические характеристики
Классификация оборудования
—
Плазмохимическое травление
Диаметр пластин
—
До 100мм, 150мм, 200мм
Возможность быть в составе кластера
—
Да
Возможность встраивания в чистую комнату
—
Да
Тип загрузки пластин
—
SMIF контейнер, Из кассеты в кассету, Шлюзовая
Цена действительна только для интернет-магазина и может отличаться от цен в розничных магазинах
ПЛАЗМА ТМ 200-01
Loading...
Технические характеристики:
- Обработка пластин на рабочем столе: Ø 76, 100, 150, 200мм;
- Транспортная система переноса пластин на основе манипулятора;
- Различные варианты исполнения системы загрузки: шлюзовая, из кассеты в кассету, SMIF контейнер;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек или пластин;
- Гелиевое охлаждение и механический прижим подложки или пластины;
- Рабочие газы: Cl2, HBr, SF6, CF4, O2, N2, He и другие;
- Мощность потребления не более 14 кВт;
- Безмасляная система откачки;
- Возможность встраивания в чистую комнату.
Гарантийное и постгарантийное обслуживание;
Возможность модернизации и переналадки оборудования под запросы заказчика.
<table class="lab-table"> <tbody> <tr> <th> СТАДИЯ ТРАВЛЕНИЯ </th> <th> ОПИСАНИЕ </th> </tr> <tr> <td> BT </td> <td> Вскрытие окисла в плазме СF4,по времени </td> </tr> <tr> <td> ME </td> <td> Травление кремниевого затвора в плазме Cl2/HBr/O2/SF6,по времени </td> </tr> <tr> <td> OE </td> <td> Травление поликремния в высокоселективной плазме Cl2/HBr/O2, по времени </td> </tr> </tbody> </table>