Наращивание
эпитаксиальных слоев кремния в широком диапазоне толщин и удельных сопротивлений
на кремниевых пластинах преимущественно хлоридным методом осаждения из газовой
фазы в производстве изделий микроэлектроники.
Работа в
автоматическом режиме автономно и в составе технологических модулей с
управлением из чистой зоны.
Оснащение:
Кварцевый реактор
цилиндрического типа с индукционно-радиационным нагревом пластин.
Многоканальная
газовая система с регуляторами расхода газа и реагента.
Датчики утечек
водородсодержащих реагентов.
Взрывобезопасная
проточная система воздушного охлаждения реактора.
Система
нейтрализации отработанных реагентов (без сжигания).
Система блокировок
безопасности.
Микропроцессорная
система управления (МПСУ), обеспечивающая:
- работу установки
в автоматическом режиме; - стабилизацию и допусковый
контроль параметров технологического процесса; - диагностику
работоспособности узлов и систем; - архивацию полученных данных,
- создание
библиотеки рецептов техпроцессов, - вывод информации на дисплей.
Особенности:
Переотражение
излучаемой энергии, движение газов сверху вниз с минимальной турбулентностью.
Снижение
дефектности эпитаксиальных структур.
Высокая
воспроизводимость процессов и высокая однородность осаждаемых слоев.
Возможность
использования различных источников кремния (реагентов).
Газовое
легирование примесями n- и р-типа.
Схема
Установки
Техническая
Характеристика
Режим работы:
технологический процесс - автоматический перезагрузка
пластин - ручная
Максимальный диаметр обрабатываемых пластин
150 мм
Производительность при обработке пластин:
диаметром 150 мм - 10 пластин/цикл диаметром 100 мм - 24
пластин/цикл диаметром 76 мм - 40 пластин/цикл
Уровень фонового легирования
не менее 300 Ом·см
Уровень управляемого легирования
до 100 Ом·см
Уровень дефектности слоев:
количество шипов на пластине - 5 дефекты упаковки - 10
см–2 коэффициент заполнения линиями скольжения - не более 0,2
Клс
Повышение
эффективности и срока службы отражающего покрытия. Отказ от золоченых
пластин.
Нанесение
отражающего покрытия на электрохимполированную поверхность.
Газовая
система
Снижение
привносимой дефектности.Повышение надёжности. Упрощение обслуживания.
Установка
электрохимполированных трубок, пневмоуправляемых клапанов, VSR-металлических
уплотнений, современной элементной базы.
МПСУ
Внедрение системы управления на базе IBM-совместимого компьютера и
промышленного контроллера с набором интерфейсных плат. Применение современных
датчиков.
Примечание. По согласованию с заказчиком модернизация
может быть проведена для других узлов и систем
установки.