РќРђРЈР§РќРћ Р?ССЛЕДОВАТЕЛЬСКР?Р™ Р?РќРЎРўР?РўРЈРў ТОЧНОГО РњРђРЁР?НОСТРОЕНР?РЇ
 
 
 
 
 
 
Russian   English
 
Модернизация оборудования

НИИТМ проводит модернизацию и обслуживание практически всего комплекса оборудования, осуществляющего базовые технологические операций производства полупроводниковых приборов и использующего различные физико-химические методы обработки:
 

Вакуумное СТО

«Электроника ТМ-1201»
Вакуумная установка напыления металлических плёнок с магнетронной системой («Оратория 29»)

«01НИ–7–015»

Вакуумная установка напыления металлических плёнок с магнетронной системой («Магна 2М», «Оратория 2М»)
«01НИ–7–006»
Вакуумная установка напыления металлических плёнок с магнетронной системой(«Оратория 5»)

 

Физико-термическое оборудование

«Эпиквар-121 МТ» Установка наращивания эпитаксиальных слоев кремния различной толщины. («УЭ.ПГЭ-10/150-020»)


Системы магнетронного распыления

«Мультикатодное распылительное устройство»  Предназначено для нанесения пленок на полупроводниковые пластины мето­дом магнетронного распыления враща­ющихся мишеней в производстве БИС и СБИС. Может использоваться в экспериментальных и промышленных вакуум­ных установках индивидуальной обработки пластин
«Планарные магнетронные распылительные устройства»
Предназначены для нанесения пленок на полупроводниковые пластины методом магнетронного распыления дисковой мишени из вращающейся разрядной зоны в производстве БИС и  СБИС. Могут использоваться в экспериментальных и промышленных вакуумных установках индивидуальной обработки пластин
 
 
         
   
  Весь дизайн «Кукумбер» 2005.
Все права защищены.