Вакуумная установка плазменного травления наноструктур "ПЛАЗМА ТМ-200"
Назначение: Плазмохимическое и реактивно-ионное травление проводящих и диэлектрических материалов, в том числе для формирования наноструктур и микроэлектронных механических систем (МЭМС).
Особенности: • Высокочастотный источник индуктивно связанной плазмы (ICP); • Шлюзовая камера поштучной загрузки – выгрузки подложек или подложкодержателя диаметром до 200 мм (200х200 мм); • Безмаслянная химически стойкая система откачки на базе турбомолекулярного и форвакуумного насосов; • Гелиевое охлаждение подложек на рабочем столе; • Микропроцессорная система управления; • Возможность встраивания в «чистую» комнату; • Возможность объединения в кластерный комплекс - стыковка отдельных установок через шлюзовую камеру или с платформой транспортно-загрузочного модуля.
