Наши разработки > Физико-термическое оборудование > "Монооксид 1"

Установка высокотемпературной обработки материалов в вакууме “Монооксид 1”

Назначение:

Реализация технологических процессов получения особочистых материалов в лабораторных и производственных условиях микро-, наноэлектроники, машиностроения и других областей:
• высокотемпературная обработка в вакууме материалов и деталей;
• синтез нанопорошков SiO, SiC, Si₃N₄, и других;
• возгонка и осаждение материалов.

Особенности:

• Вращающийся плазменный реактор диаметром 130 мм.
• Система наклона и вращения реактора.
• Высокочастотный нагрев до 2000 ^oС.
• Газовая система (A₂, N₂, H₂, CH₄).
• Система откачки на базе роторного и форвакуумного насосов.
• Мощность установки не более 160 кВт.
• Микропроцессорная система управления.