НАУЧНО ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ТОЧНОГО МАШИНОСТРОЕНИЯ

Наши разработки > Физико-термическое оборудование > Изотрон ТМ

Установка для процессов осаждения слоёв из газовой среды при пониженном давлении

"Изотрон ТМ"

Назначение:

·   Низкотемпературное осаждение слоёв из газовой среды, в том числе слоев легированной и нелегированной двуокиси кремния, из концентрированных реагентов при пониженном давлении (форвакууме).

Особенности:

·   Однореакторная электропечь резистивного нагрева горизонтального типа.

·   Кварцевый реактор с герметизируемой рабочей зоной.

·   Трехсекционный спиральный нагреватель с платиновой термопарой в каждой секции.

·   Пятиканальная газовая система с электронными регуляторами расхода газа, регуляторами давления и фильтрами тонкой очистки.

·   Малогабаритная безмаслянная химически стойкая форвакуумная система откачки.

·   Система контроля герметизации реактора.

·   Высокая воспроизводимость процессов.

·   Управление температурой в реакторе с компенсацией дестабилизирующих факторов (изменение напряжения сети, подача рабочих газов, ввод лодочки и т.п.)

·   Газоанализаторы утечек фосфина (РН₃) и моносилана (SiH₄).

·   Микропроцессорная система управления.

Возможность встраивания в “чистую” комнату.

·   Внутренний диаметр реактора – 130 мм.

·   Длина рабочей зоны реактора – 300 мм.

·   Диаметр обрабатываемых пластин– до 100 мм.

·   Количество одновременно обрабатываемых пластин– до 25.

·   Диапазон рабочих температур – 250¸900°С.

·   Неравномерность распределения
температуры по длине рабочей зоны – не более ± 2°С.

·   Нестабильность температуры
в рабочей зоне– не более ±1°С.

·   Время разогрева до 900°С – не более 35 мин.

·   Предельное остаточное давление в реакторе– не более 1,3 Па

·   Рабочее давление– 10¸150 Па.

·   Технологические газы: моносилан, фосфин, кислород, азот и другие.

·   Электропитание (3 фазы, 380 В)– не более 17 кВт.

·   Расход воды – не более 0,4 м3/час;

·   Габаритные размеры– 1500 х 700 х 1400 мм.