Предприятие производит и поставляет новое технологическое оборудование с учетом требований Заказчика, в том числе для его использования в области нано- и микроэлектроники. Принцип построения оборудования, создаваемого нашим предприятием: максимально унифицированный, отработанный, надёжный базовый вакуумный модуль и реакторы  для различных технологических назначений. Это традиционные реакторы для трёхпозиционного магнетронного нанесения каталитических покрытий (Fe,Ni,V), технологические реакторы на основе ICP плазменных разрядов для процессов прецизионного плазмохимического травления и для газофазного осаждения нанотрубок на нанокластерах каталитических материалов, а также оригинальные, создаваемые на основе патентуемых технических решений.