Вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления со шлюзовой загрузкой
Назначение:
Нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких плёнок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Обработка подложек в одном технологическом цикле: 60 х 48 мм – 3 шт.; Ø 76, 100, 150, 200 мм – 1 шт.;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
- Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
- Планарное МРУ с мишенью Ø 280 мм или мультикатодное МРУ с тремя мишенями Ø 100 мм;
- Скоростное нанесение из трех магнетронов одной пленки или последовательное нанесение двух-, трехслойных пленок и использованием заслонки;
- Вращающийся ВЧ электрод с нагревом и очисткой подложек в ВЧ плазме;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и туромолекулярного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 16 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.
Скачать PDF