+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ПЛАЗМА ТМ 300

магна тм 300-1

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ
С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ
ИЗ КАССЕТЫВ КАССЕТУ

ПЛАЗМА ТМ 300

НАЗНАЧЕНИЕ:

Плазмохимическое травление диэлектрических (SiO2, Si3N4 и другие),
металлических (Al, Cr и другие), полупроводниковых и полимерных
слоев на подложках диаметром до 300 мм.

тм300-пластины

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Обработка пластин в одном технологическом цикле:
    60х48 мм — 19 шт., Ø 76 мм — 13 шт., Ø 100 мм — 7 шт.,
    Ø 150 мм — 3 шт., Ø 200 мм — 1 шт., Ø 300 мм — 1 шт.;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек на носителе
    из кассеты в кассету;
  • Транспортная система переноса подложек на носителе из шлюзовой камеры в
    рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Нагрев стенки реактора до 60°С;
  • Гелиевое охлаждение и механический прижим носителя;
  • Рабочие газы: Cl₂, HBr, SF₆, CF₄, CHF₃, O₂, Ar, He и другие;
  • Мощность потребления не более 21 кВт;
  • Безмасляная система откачки;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

плазма3003