+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ЭПИ ЕТМ-М

Малогабаритная установка газофазного выращивания эпитаксиальных слоёв

эпиетмм-1

Назначение:

Осаждение эпитаксиальных слоёв на монокристаллические подложки кремния или сапфира.

Особенности:

  • Кварцевый реактор с «холодной» стенкой;
  • Полуавтоматическая перегрузка пластин с применением линейного манипулятора;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 32 кВт;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~7 м2.

эпиетмм-2   9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF