ЭПИГРАН ТМ

Установка жидкофазной эпитаксии структур

Назначение:

Получение эпитаксиальных- ферро-гранатовых, цилиндрических магнитных доменных (ЦМД) и других структур из жидкой фазы.

Особенности:

• Поштучная эпитаксия на подложках Ø76, 100 мм;
• 5 зон нагрева печи и 1 зона нагрева тигля;
• Диапазон рабочих температур 300 — 1250° С;
• Микропроцессорная система управления;
• Мощность потребления не более 17 кВт;
• Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м².

    Скачать PDF