Установка жидкофазной эпитаксии структур
Назначение:
Получение эпитаксиальных- ферро-гранатовых, цилиндрических магнитных доменных (ЦМД) и других структур из жидкой фазы.
Особенности:
- Поштучная эпитаксия на подложках Ø76, 100 мм;
- 5 зон нагрева печи и 1 зона нагрева тигля;
- Диапазон рабочих температур 300 — 1250° С;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 17 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.