Вакуумная установка нанесения плёнок методом электронно-лучевого испарения
Назначение:
Нанесение однослойных и многослойных тонких плёнок на подложки (пластины) методом электронно-лучевого испарения материалов, в том числе осаждение плёнок по нормали к поверхности подложки.
Особенности:
- Групповая обработка подложек Ø 76 мм или Ø 100 мм;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
- Вращающийся купольный подложкодержатель;
- Четырёхтигельный электронно-лучевой испаритель;
- Предварительный нагрев подложек и их очистка с помощью источника ионов;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и двух криогенных насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 20 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 4 м2.
Скачать PDF