Четырёхпозиционная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления и электронно-лучевого испарения со шлюзовой загрузкой
Назначение:
Нанесение плёнок металлов, резистивных материалов и диэлектриков.
Особенности:
- Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: Ø 76 мм – 15 шт.; Ø 100 мм – 9 шт.; Ø 150 мм – 3 шт.
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек (Позиция 1);
- Система переноса подложек из шлюзовой камеры в две рабочие позиции (2, 3) транспортной каруселью;
- Мультикатодное МРУ с тремя мишенями Ø100 мм;
- Четырёхтигельный электронно-лучевой испаритель;
- Предварительный нагрев подложек и их очистка с помощью источника ионов;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и туромолекулярного или криогенного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 20 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 6м2
Скачать PDF