ЧЕТЫРЕХПОЗИЦИОННАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ
И ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ИСПАРЕНИЯ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ

ЭЛИМ ТМ 5

ОСОБЕННОСТИ

• Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле:
  Ø 76мм – 15 шт.; Ø 100мм – 9 шт.; Ø 150мм – 3 шт.;
• Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек (Позиция 1);
• Система переноса подложек из шлюзовой камеры в две рабочие позиции (2,3) транспортной каруселью;
• Система магнетронного распыления (Позиция 4);
• Четырехтигельный электронно-лучевой испаритель (Позиция 3);
• Предварительный нагрев подложек и их очистка с помощью источника ионов (Позиция 2);
• Безмасляная система откачки;
• Мощность потребления не более 20 кВт.

    Скачать PDF

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение металлических, диэлектрических или резистивных тонких пленок на подложки (пластины)
методом магнетронного распыления и электронно-лучевого испарения.