+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ХЛОРИД

Комплект установок получения высокочистых хлоридных материалов методом ректификации

хлорид-1

Назначение:

Получение высокочистых хлоридных материалов с чистотой 99,99994 методом периодической высокотемпературной ректификации в промышленных объёмах.

Особенности:

  • Хлоридные материалы для очистки: Салют 1 – тетрахлорид кремния (SiCl4); Салют 2 – трихлорсилан (SiHCl3); Салют 3 – тетрахлорид германия (GeCl4); Салют 4 –треххлористый мышьяк (AsCl3);
  • Автоматизированное управление;
  • Химически стойкая вакуумная система откачки;
  • Габариты технологических шахт для каждой колонны (ДхШхВ) – 1,5х1,0х6,8 м;
  • Мощность потребления не более 20 кВт.

хлорид-2 хлорид-3

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF