+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ХЛОРИД

хлорид1

КОМПЛЕКТ УСТАНОВОК ПОЛУЧЕНИЯ
ВЫСОКОЧИСТЫХ ХЛОРИДНЫХ МАТЕРИАЛОВ
МЕТОДОМ РЕКТИФИКАЦИИ

ХЛОРИД

НАЗНАЧЕНИЕ:

Получение высокочистых хлоридных материалов с чистотой
99,99994 методом периодической высокотемпературной ректификации.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Хлоридные материалы для очистки:
    Салют 1 – тетрахлорид кремния (SiCl₄);
    Салют 2 – трихлорсилан (SiHCl₃);
    Салют 3 – тетрахлорид германия ( GeCl₄);
    Салют 4 – треххлористый мышьяк ( AsCl₃);
  • Автоматизированное управление;
  • Химически стойкая вакуумная система откачки;
  • Габариты технологических шахт для каждой
    колонны (ДxШхВ) – 1,5х1,0х6,8 м;
  • Мощность потребления не более 20 кВт.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

хлорид3