+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ПЛАЗМА 200-01К

плазма тм 200-01к-1

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ С ICP ИСТОЧНИКОМ ПЛАЗМЫ и ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

ПЛАЗМА ТМ 200-01К

        НАЗНАЧЕНИЕ

          Плазмохимическое травление поликристаллического
          кремния и нитрида кремния(мелкощелевая изоляция в кремнии).

плазма тм 200-02к-2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Индивидуальная обработка пластин на рабочем столе: Ø 76, 100, 150, 200мм – 1 шт.;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки пластин в кассете;
  • Транспортная система переноса пластин из шлюзовой камеры в реактор на основе манипулятора;
  • Нагрев стенок реактора до 60°С;
  • Гелиевое охлаждение и механический прижим пластин на рабочем столе;
  • Рабочие газы: Cl2, HBr, SF6, CF4, CHF3, O2, Ar, He и другие;
  • Скорость анизотропного травления кремния не менее 0,5-1 мкм/мин;
  • Мощность потребления не более 14 кВт;
  • Безмасляная система откачки;
  • Возможность встраивания в чистую комнату;
  • Может входить в кластерный комплекс.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

плазма тм 200-01к-3