+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ПЛАЗМА ТМ 7

плазма тм 7_1

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
РЕАКТИВНО-ИОННОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ
СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

ПЛАЗМА ТМ 7

НАЗНАЧЕНИЕ

Травление диэлектрических слоев и полупроводниковых материалов методом реактивно-ионного травления.

плазма тм 7_2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Индивидуальная обработка пластин Ø 76, 100, 150мм на рабочем столе в одном технологическом цикле;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки пластин из кассеты в кассету;
  • Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Рабочие газы: Ar, He, CF₄, SF₆, C₃F₈, CHF₃ и др.;
  • Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности
  • ВЧ электрода-подложкодержателя в диапазоне 50-400 Вт;
  • Мощность потребления не более 6,5 кВт;
  • Безмасляная система откачки;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

плазма тм 7_3