+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG
Error

An error occurred.

Sorry, the page you are looking for is currently unavailable.
Please try again later.

If you are the system administrator of this resource then you should check the error log for details.

Faithfully yours, nginx.

ПЛАЗМА ТМ 200-03

Вакуумная установка плазмохимического травления с ICP источником и шлюзовой загрузкой

Назначение:

Высокоселективные процессы плазмохимического удаления фоторезистивной маски и травления органических полимеров.

Особенности:

  • Индивидуальная и групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: 60х48 мм – 7 шт; Ø 76мм – 4 шт; 156х156 мм – 1 шт; Ø 50 мм – 11 шт; Ø 100 мм – 2 шт; Ø 150, 200мм – 1 шт;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
  • Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Рабочие газы: Н₂-N₂, O₂, CF₄, N₂;
  • Нагреваемый подложкодержатель до 250°С;
  • СВЧ источник удаленной плазмы для травления радикалами;
  • Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и турбомолекулярного насосов;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 9 кВт;
  • Возможность встраивания в чистую комнату;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.

 

 

 

 

 

 

 

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF