АО НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ТОЧНОГО МАШИНОСТРОЕНИЯ
ПЛАЗМА ТМ 200-02
ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ С ICP ИСТОЧНИКОМ
ПЛАЗМА ТМ 200-02
НАЗНАЧЕНИЕ
Глубокое плазмохимическое анизотропное травление
кремния в производстве МЭМС, НЭМС, сборок 2,5D и 3D, а так же сквозных высокоаспектных отверстий и др. на базе Bosch-процесса.
ОСОБЕННОСТИ
СХЕМА УСТАНОВКИ
Обработка пластин на рабочем столе: Ø 76, 100, 150, 200мм;
Транспортная система переноса пластин на основе манипулятора;
Различные варианты исполнения системы загрузки: шлюзовая, из кассеты в кассету, SMIF контейнер;
Нагрев стенки реактора до 60°С;
Гелиевое охлаждение и механический прижим пластин;
Рабочие газы: Ar, SF₆, O₂, C₄F₈, He.;
Скорость анизотропного травления кремния не менее 5 мкм/мин;
Попеременная подача газа с программируемым временем цикла;