Вакуумная установка плазмохимического травления с ICP источником и шлюзовой загрузкой
Назначение:
Плазмохимическое травление поликристаллического кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии).
Особенности:
- Индивидуальная и групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: 60х48 мм – 7 шт; Ø 76мм – 4 шт; 156х156 мм – 1 шт; Ø 50 мм – 11 шт; Ø 100 мм – 2 шт; Ø 150, 200мм – 1 шт;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
- Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
- Рабочие газы: Cl₂, HBr, SF₆, O₂, CF₄, He, N₂;
- Гелиевое охлаждение и механический прижим пластин;
- Попеременная подача газа с программируемым временем цикла;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и турбомолекулярного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 12,5 кВт;
- Возможность встраивания в чистую комнату;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.
Скачать PDF