+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ПЛАЗМА ТМ 200-01

плазма тм 200-01_1

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ С ICP ИСТОЧНИКОМ
И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

ПЛАЗМА ТМ 200-01К

 НАЗНАЧЕНИЕ

Плазмохимическое травление поликристаллического
кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии).плазма тм 200-01_2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Групповая и индивидуальная обработка подложек на
    подложкодержателе в одном технологическом цикле:
    60х48 мм – 7 шт.; Ø 76мм – 4 шт.; Ø 100, 150, 200мм – 1 шт.;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
  • Транспортная система переноса подложек из шлюзовой
    камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Рабочие газы: CL₂, HBr, SF₆, O2, CF₄, He, N₂.;
  • Гелиевое охлаждение и механический прижим пластин;
  • Мощность потребления не более 14 кВт;
  • Безмасляная система откачки;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

плазма тм 200-01_3