ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ
С ICP ИСТОЧНИКОМ

ПЛАЗМА ТМ 200-01

 НАЗНАЧЕНИЕ

Плазмохимическое травление поликристаллического
кремния и нитрида кремния (мелкощелевая изоляция в кремнии).

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Обработка пластин на рабочем столе: Ø 76, 100, 150, 200мм;
• Транспортная система переноса пластин на основе манипулятора;
• Различные варианты исполнения системы загрузки: шлюзовая, из кассеты в кассету, SMIF контейнер;
• Рабочие газы: CL₂, HBr, SF₆, O2, CF₄, He, N₂.;
• Гелиевое охлаждение и механический прижим пластин;
• Мощность потребления не более 14 кВт;
• Безмасляная система откачки;
• Возможность встраивания в чистую комнату.

  скачать pdf