Одной из последних разработок АО НИИТМ стала кластерная установка магнетронного нанесения металлов с индивидуальной обработки пластин диаметром 150-200 мм по принципу «из-кассеты-в-кассету» с четырьмя технологическими модулями магнетронного распыления с возможностью ВЧ смещения пластин и формирования заданного магнитного поля с использованием двух внешних электромагнитных катушек. Кластерная система предназначена для конформного нанесения в едином вакуумном цикле многослойных металлических пленок на высокоаспектные структуры,