ОТЖИГ ТМ-5

Малогабаритная установка термической обработки пластин и материалов в вакууме или в газовой среде

Назначение:

Автоматизированная термическая обработка кремниевых пластин, керамических подложек и материалов (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур и др.) в высоком вакууме или в газовой среде.

Особенности:

• Групповая обработка до 25 пластин до Ø 100 мм или керамических подложек;
• Кварцевый реактор с герметизируемой рабочей зоной;
• Диапазон рабочих температур 300-700° С;
• Рабочие газы: Ar, H₂, N₂, O₂;
• Повышенная скорость нагрева и охлаждения;
• Микропроцессорная система управления;
• Безмасляная система откачки (ТМН 300);
• Мощность потребления не более 5 кВт;
• Возможность встраивания в «чистую» комнату;
• Площадь, занимаемая одной установкой ~ 1,2 м².

  Скачать PDF