Малогабаритная установка процессов диффузии, окисления, отжига подложек и материалов при нормальном давлении
Назначение:
Автоматизированная термическая обработка пластин и материалов (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур) при нормальном давлении.
Особенности:
- Групповая обработка до 120 пластин до Ø 100 мм;
- Кварцевый реактор с герметизиуремой рабочей зоной;
- Диапазон рабочих температур 300-1100° С;
- Рабочие газы: N2, O2, H2, HCl;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 15 кВт;
- Возможность встраивания в «чистую» комнату;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 3 м2.
Скачать PDF