МАЛОГАБАРИТНАЯ УСТАНОВКА ПРОЦЕССОВ ДИФФУЗИИ,
ОКСИЛЕНИЯ, ОТЖИГА ПОДЛОЖЕК И МАТЕРИАЛОВ
ПРИ НОРМАЛЬНОМ ДАВЛЕНИИ

ОКСИД ТМ 1

НАЗНАЧЕНИЕ:

Автоматизированная термическая обработка пластин и
материалов в газовой среде (оксидирование, отжиг, сушка, разгонка
диффузанта, восстановление кристаллических структур) при
нормальном давлении.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Групповая обработка 120 пластин до Ø 100 мм;
• Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
• Диапазон рабочих температур 300-1100°С;
• Рабочие газы: N₂, O₂, H₂, HСl;
• Микропроцессорная система управления;
• Мощность потребления не более 15 кВт;
• Возможность встраивания в чистую комнату.

    Скачать PDF