+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ОКСИД ТМ-1

оксидтм11

МАЛОГАБАРИТНАЯ УСТАНОВКА ПРОЦЕССОВ ДИФФУЗИИ,
ОКСИЛЕНИЯ, ОТЖИГА ПОДЛОЖЕК И МАТЕРИАЛОВ
ПРИ НОРМАЛЬНОМ ДАВЛЕНИИ

ОКСИД ТМ 1

НАЗНАЧЕНИЕ:

Автоматизированная термическая обработка пластин и
материалов в газовой среде (оксидирование, отжиг, сушка, разгонка
диффузанта, восстановление кристаллических структур) при
нормальном давлении.

оксидтм12

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Групповая обработка 120 пластин до Ø 100 мм;
  • Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
  • Диапазон рабочих температур 300-1100°С;
  • Рабочие газы: N₂, O₂, H₂, HСl;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 15 кВт;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

оксидтм13