+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ОКСИД ТМ-1

Малогабаритная установка процессов диффузии, окисления, отжига подложек и материалов при нормальном давлении

оксидтм1_1

Назначение:

Автоматизированная термическая обработка пластин и материалов (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур) при нормальном давлении.

Особенности:

  • Групповая обработка до 120 пластин до Ø 100 мм;
  • Кварцевый реактор с герметизиуремой рабочей зоной;
  • Диапазон рабочих температур 300-1100° С;
  • Рабочие газы: N2, O2, H2, HCl;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 15 кВт;
  • Возможность встраивания в «чистую» комнату;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 3 м2.

оксидтм1_2 оксидтм1_3

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF