НВУ ТМ ПЛАЗМА 01

Настольная вакуумная установка травления слоёв методом реактивно-ионного травления

Назначение:

Травление тонких диэлектрических и металлических слоёв, а также полупроводниковых материалов методом реактивно-ионного травления.

Особенности:

• Рабочая поверхность стола Ø116 мм (80 х 80);
• Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде-подложкодержателе в диапазоне от 0 до 1000 В;
• Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ в диапазоне 30-200 Вт;
• Рабочие газы: Ar, SF₆, O₂, CF₄;
• Безмасляная система откачки (агрегат с ТМН60);
• Микропроцессорная система управления;
• Мощность потребления не более 3 кВт;
• Площадь, занимаемая одной установкой ~ 1,5 м².

  Скачать PDF