+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

НВУ ТМ ПЛАЗМА 01

Настольная вакуумная установка травления слоёв методом реактивно-ионного травления

нву_тм_плазма01_1

Назначение:

Травление тонких диэлектрических и металлических слоёв, а также полупроводниковых материалов методом реактивно-ионного травления.

Особенности:

  • Рабочая поверхность стола Ø116 мм (80 х 80);
  • Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде-подложкодержателе в диапазоне от 0 до 1000 В;
  • Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ в диапазоне 30-200 Вт;
  • Рабочие газы: Ar, SF6, O2, CF4;
  • Безмасляная система откачки (агрегат с ТМН60);
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 3 кВт;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 1,5 м2.

нву_тм_плазма01_3 нву_тм_плазма01_2

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF