Настольная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления материала на подложку 
Назначение:
Нанесение плёнок металлов и резистивных материалов методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка):
- 60 х 48 мм – 1 шт.;
- Микропроцессорная система управления;
- Безмасляная система откачки: агрегат с ТМН60;
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 1,5 м2.
Скачать PDF