+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG
internet

Направления деятельности

 

Разработка и производство научного и опытно-промышленного технологического оборудования

Вакуумно-плазменное оборудование

 

Физико-термическое оборудование

       

Нанесение пленок

 

Cухая обработка поверхности в плазме ВЧ разряда

 

Осаждение пленок из газовой среды в плазме ВЧ разряда

 

Газотермическая групповая обработка при 300-2100 °С

 

Выращивание монокристал- лических структур (Эпитаксия)

 

Прецизионная очистка материалов методом ректификации

       
В плазме магнетронного разряда   Ионное травление и очистка поверхности   Плазмо-химическое осаждение с диодной системой (PECVD)   Осаждение слоёв   Из жидкой среды при 300-1250 °С   Очистка газов методом ректификации
                           
Термическое испарение   Плазмо-химическое травление   С источником индуктивно связанной плазмы (ICPPECVD)   Окисление   Из газовой среды при 550-1300 °С   Очистка жидкостей методом ректификации
                           
Электронно-лучевое испарение   Реактивно-ионное травление (RIE)   Атомно-слоевое осаждение (ALD)   Диффузия       Очистка твердых материалов методом возгонки и сублимации
                           
Плазменно-дуговое испарение   С источником индуктивно связанной плазмы (ICPRIE)       Отжиг