+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

МВУ ТМ ТИС 02

мву тм магнатис_1

МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
МЕТОДОМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ МАТЕРИАЛА НА ПОДЛОЖКУ

МВУ ТМ ТИС 02

мву тм магнатис_2

ОСОБЕННОСТИ

  • Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле
    (односторонняя обработка): Ø100 мм – 4 шт., Ø150 мм – 2 шт.;
    (двусторонняя обработка): 60х48 – 6 шт.;
  • Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
  • Ионно – плазменная очистка и нагрев подложек
    перед нанесением покрытия;
  • Планетарный механизм вращения подложек;
  • Испаритель мощностью не более 900 Вт – 1шт.;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Безмасляная система откачки;
  • Мощность потребления не более 4,5 кВТ.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение пленок на подложки (пластины) методом термического испарения.

мву тм магнатис_3