Малогабаритная вакуумная установка нанесения плёнок методом термического испарения
Назначение:
Нанесение плёнок методом термического испарения.
Особенности:
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка): Ø 100 мм – 4 шт.;
- Микропроцессорная система управления;
- Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
- Безмасляная система откачки (агрегат с ТМН60);
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF