Вакуумная установка глубокого анизотропного травления
Назначение:
Глубокое анизотропное травление кремниевых пластин.
Особенности:
- Рабочая поверхность стола-ВЧ электрода Ø180 мм;
- Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде-подложкодержателе в диапазоне от 0 до 1000 В;
- Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ электрода-подложкодержателя в диапазоне 30-200 Вт;
- Рабочие газы: Ar, SF6, O2, C4F8;
- Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ ICP источника плазмы в диапазоне 400-600 Вт;
- Безмасляная система откачки (ТМН300);
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 3 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF