+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

МВУ ТМ ПЛАЗМА 02

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического травления слоёв с диодной системой

мву_тм_плазма02_1

Назначение:

Плазмохимическое селективное травление диэлектрических и металлических плёнок

Особенности:

  • Рабочая поверхность стола-ВЧ электрода Ø180 мм;
  • Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде-подложкодержателе в диапазоне от 0 до 1000 В;
  • Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ электрода-газового душа в диапазоне 30-200 Вт;
  • Рабочие газы: Ar, SF6, O2, CF4;
  • Форвакуумная система откачки;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 3 кВт;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.

мву_тм_плазма02_3    мву_тм_плазма02_2  

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

Error

An error occurred.

Sorry, the page you are looking for is currently unavailable.
Please try again later.

If you are the system administrator of this resource then you should check the error log for details.

Faithfully yours, nginx.