+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

МВУ ТМ ПЛАЗМА 02

 мву тм плазма 02-1

МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ СЛОЕВ
С ДИОДНОЙ СИСТЕМОЙ

МВУ ТМ ПЛАЗМА 02

НАЗНАЧЕНИЕ

Плазмохимическое селективное травление диэлектрических и
металлических плёнок.

мву тм плазма 02-2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
    до Ø 150 мм – 1 шт.;
  • Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде – подложкодержателе в диапазоне от 0 до 1000 В;
  • Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ в диапазоне 30 – 200 Вт;
  • Рабочие газы: Ar, SF₆, O₂, CF₄;
  • Безмасляная система откачки;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 4 кВт.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 мву тм плазма 02-3