Малогабаритная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления 
Назначение:
Нанесение плёнок металлов, резистивных материалов и диэлектриков методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Тип и количество МРУ в установке: Магна 11 постоянного тока – 2 шт.; Магна 12 постоянного тока – 1 шт., ВЧ – 1 шт.
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка): Ø 100 мм – 4 шт. (Ø 150 мм – 2 шт. на другом держателе);
- Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
- Количество ионных источников – 1 шт.;
- Микропроцессорная система управления;
- Безмасляная система откачки (агрегат с ТМН300);
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF