МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛА НА ПОДЛОЖКУ

МВУ ТМ МАГНА 11, 12

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение пленок металлов и диэлектриков на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Тип и количество МРУ в установке:
  Магна 11, постоянного тока – 2 шт.;
  Магна 12, постоянного тока – 1шт., ВЧ – 1 шт.;
• Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле
  (односторонняя обработка): Ø100 мм – 4 шт., Ø150 мм – 2 шт.;
  (двусторонняя обработка): 60х48 – 6 шт.;
• Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
• Количество ионных источников – 1 шт.;
• Микропроцессорная система управления;
• Безмасляная система откачки;
• Мощность потребления не более 4,5 кВТ.

  скачать pdf